薄膜技术教学大纲
材料科学与工程学院本科课程教学大纲
薄膜技术课程教学大纲
课程名称：薄膜技术课程编码：02100390英文名称：Thin Film Technology
学时：24学时学分：1.5学分开课学期：第七学期
适用专业：材料物理
课程类别：必修
课程性质：专业课
先修课程：高等数学、大学物理、材料科学基础、现代分析测试方法
教材：《薄膜制备技术及其应用》金曾孙主编吉林大学出版社
一、课程的性质及任务
薄膜制备技术是一种重要的材料制备和材料表面改性的技术，通过学习本课程可以使学生了解和掌握真空蒸镀、溅射沉积、化学气相沉积以及电解镀等基本的薄膜的物理和化学制备技术，了解薄膜材料的基本特点和物性检测主要方法，拓宽学生的知识领域，培养出知识结构更为合理的优秀人才。
二、课程内容及学习方法
1、绪论
薄膜材料的特性
薄膜制备方法的分类和特点
薄膜制备方法和制备条件的选择
薄膜的物性测量方法
2、真空蒸镀技术
蒸发和形核过程以及薄膜形成过程
蒸发源和真空蒸镀技术
特殊的蒸发技术
3、溅射沉积方法
溅射物理机理
溅射粒子和放电特性
溅射沉积的基本装置
溅射法的特点和几种主要应用
1
薄膜技术课程教学大纲
24、化学气相沉积（CVD方法）
化学气相沉积的基本原理
化学气相沉积的实验装置
薄膜材料的CVD生长
5、等离子体化学气相沉积（PCVD）方法和等离子体氧化方法PCVD方法的基本原理和PCVD实验装置
用PCVD方法制备的薄膜材料
等离子体氧化方法及其装置
等离子体氧化膜
6、电解镀和无电解镀方法
电解镀方法和原理
无电解镀方法和原理
阳极氧化方法
7、膜厚检测方法
天平法
电学法
光学法
辐射吸收法和辐射发射法
三、课程的教学要求
1、绪论
简单介绍薄膜材料的特性、分类和特点、各种制备方法和制备条件的选择以及薄膜的几种物性测量方法。
2、真空蒸镀技术
主要介绍真空蒸镀技术中蒸发和形核过程以及薄膜形成过程，简单介绍蒸发源和真空蒸镀装置以及一些特殊的蒸发技术。
3、溅射沉积方法
主要介绍溅射沉积方法的物理机理和溅射法的特点，简单介绍溅射粒子和放电特性以及溅射沉积的基本装置。
4、化学气相沉积（CVD方法）
主要介绍化学气相沉积的基本原理及其实验装置，简单介绍薄膜材料的CVD生长过程。
5、等离子体化学气相沉积（PCVD）方法和等离子体氧化方法
重点介绍PCVD方法的基本原理和实验装置以及用PCVD方法制备的薄膜材料，简单介绍等离子体氧化方法及其装置和等离子体氧化膜的制备过程。
6、解镀和无电解镀方法
材料科学与工程学院本科课程教学大纲
重点介绍电解镀方法和原理以及无电解镀方法和原理，简单介绍阳极氧化方法
7、膜厚检测方法
重点介绍天平法、电学法、光学法和辐射吸收法和辐射发射法的主要物理原理和具体实验方法。
四、课程学时分配
五、课程习题要求
包括概念题、简答题和综合分析题，数量为5-10题。
六、课程的实验内容与要求
无
七、课程主要参考书
顾培夫《薄膜技术》浙江大学出版社1990 [美]J.L.沃森W.克恩等《薄膜加工工艺》机械工业出版社1987麻莳立男《薄膜技术基础》电子工业出版社1988杨邦朝王文生《薄膜物理与技术》电子科技大学出版社1994王力衡黄运添郑海涛《薄膜技术》清华大学出版社1991唐伟忠《薄膜材料制备原理、技术与应用》冶金工业出版社1998
制定人：苏治斌
审定人：张瑞军
批准人：杨庆祥
2005年3月
3。
薄膜物理与技术课程教学大纲 .doc
薄膜物理与技术课程教学大纲一、课程说明（一）课程名称、所属专业、课程性质、学分；课程名称：薄膜物理与技术所属专业：电子器件与材料工程课程性质：必修课学分：3（二）课程简介、目标与任务；本课程讲授薄膜的形成机制和原理、薄膜结构和缺陷、薄膜各项物理性能和分析方法等物理内容；讲授薄膜各种制备技术。
通过本课程学习，使学生具备从事电子薄膜、光学薄膜、以及各种功能薄膜研究与开发的能力（三）先修课程要求，与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接；《量子力学》、《热力学与统计物理》、《固体物理》、《电子技术》、《电路分析》等。
（四）教材与主要参考书。
教材：二、课程内容与安排本课程全部为课堂讲授。
重点：真空的获得和真空测量的工作原理；物理气相沉积和化学气相沉积的原理及方法；薄膜生长的机理。
难点：磁控溅射的机理及控制；MOCVD技术；薄膜形成过程的机理（一）绪论2学时1、薄膜的概念和历史2、薄膜材料与薄膜技术的发展3、薄膜科学是边缘交叉学科4、薄膜产业是腾飞的高科技产业（二）真空技术基础2学时1、真空的基本知识2、真空的获得3、真空的测量（三）真空蒸发镀膜4学时1、真空蒸发原理2、蒸发源的蒸发特性及膜厚分布3、蒸发源的类型4、合金及化合物的蒸发5、膜厚和淀积速率的测量与控制（四）溅射镀膜4学时1、溅射镀膜的特点2、溅射的基本原理3、溅射镀膜类型4、溅射镀膜的厚度均匀性（五）离子镀膜2学时1、离子镀原理2、离子镀的特点3、离子轰击的作用4、离子镀的类型（六）化学气相沉积镀膜4学时1、化学气相沉积的基本原理2、化学气相沉积的特点3、化学气相沉积方法简介4、低压化学气相沉积5、等离子体化学气相沉积6、其他化学气相沉积（七）溶液镀膜法2学时1、化学反应沉积2、阳极氧化法3、电镀法4、LB膜的制备（八）薄膜的形成4学时1、凝结过程2、核形成过程3、薄膜形成过程生长模型4、溅射薄膜的形成过程5、薄膜的外延生长6、薄膜形成过程的计算机模拟（九）薄膜的结构和缺陷4学时1、薄膜的结构2、薄膜的缺陷3、薄膜表面缺陷：再构表面和吸附表面4、薄膜结构与组分的分析方法（十）薄膜的性质和应用4学时1、薄膜的力学性质和应用2、光学薄膜的性质和应用3、金属薄膜的电学性质和应用4、功能介质薄膜的电学性质和应用5、半导体薄膜的性质和应用6、磁性薄膜的性质和应用7、超导薄膜的性质和应用8、金刚石薄膜的性质和应用制定人：审定人：批准人：日期：。
《薄膜物理与技术》课程教学大纲
《薄膜物理与技术》课程教学大纲课程代码：ABCL0527课程中文名称: 薄膜物理与技术课程英文名称：Thin film physics and technology课程性质：选修课程学分数：1.5课程学时数：24授课对象：新能源材料与器件专业本课程的前导课程：《材料表面与界面》、《近代物理概论》、《材料科学基础》、《固体物理》、《材料物理性能》一、课程简介本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
通过本课程的讲授，使学生在薄膜物理基础部分，懂得薄膜形成物理过程及其特征，薄膜的电磁学、光学、力学、化学等性质。
在薄膜技术部分初步掌握各种成膜技术的基本内容以及薄膜性能的检测。
二、教学基本内容和要求掌握物理、化学气相沉积法制膜技术，了解其它一些成膜技术。
学会对不同需求的薄膜，应选用不同的制膜技术。
了解各种薄膜形成的过程及其物理特性。
理解并能运用热力学界面能理论及原子聚集理论解释薄膜形成过程中的一些现象，了解薄膜结构及分析方法，理解薄膜材料的一些基本特性，为薄膜的应用打下良好的基础。
以下分章节介绍：第一章真空技术基础课程教学内容：真空的基础知识及真空的获得和测量。
课程重点、难点：真空获得的一些手段及常用的测量方法。
课程教学要求：掌握真空、平均自由程的概念，真空各种单位的换算，平均自由程、碰撞频率、碰撞频率的长度分布率的公式，高真空镀膜机的系统结构及抽气的基本过程。
理解蒸汽、理想气体的概念，余弦散射率，真空中气体的来源，机械泵、扩散泵、分子泵以及热偶真空计和电离真空计的工作原理。
了解真空的划分，气体的流动状态的划分，气体分子的速度分布，超高真空泵的工作原理。
第二章真空蒸发镀膜法课程教学内容：真空蒸发原理，蒸发源的蒸发特性及膜厚分布，蒸发源的类型，合金及化合物的蒸发，膜厚和淀积速率的测量与监控。
薄膜科学与技术教学大纲
《薄膜科学与技术》教学大纲一、课程简介课程名称：薄膜科学与技术 Science and Technology of Thin Films课程类型：专业课（选修）学时：48学分：3开课学期：7开课对象：材料物理专业先修课程：固体物理导论；材料分析测试技术参考教材：1．郑伟涛《薄膜材料与薄膜技术》化学工业出版社2．田民波《薄膜技术与薄膜材料》清华大学出版社3．杨邦朝《薄膜物理与技术》电子科技大学出版社4．唐伟忠《薄膜材料制备原理，技术及应用》冶金工业出版社二、课程性质、目的与任务《薄膜科学与技术》是“材料物理”专业本科生拓展知识面的选修课程，它也适合材料类其它专业学生选修。
学生在已具备一定的固体物理导论、材料分析测试技术等知识的基础上，通过本课程了解薄膜的基本概念、特殊性和重要性；掌握薄膜材料的制备方法、形成过程、表征方法、性质及应用。
薄膜是材料的一种特殊形态。
薄膜科学是现代材料科学中极其重要和发展最为迅速的一个分支，已成为微电子学、光电子学、磁电子学等新兴交义学科的材料基础，成为了构筑高新技术产业的基本要素。
通过对薄膜科学与技术课程的学习，并通过相关资料查询、阅读、专题报告及综合分析与讨论，逐渐使学生掌握薄膜基本概念、特殊性、制备方法、生长理论和研究方法，为今后从事薄膜材料及相关材料领域的研究和工作打下良好的基础。
三、教学基本要求1. 了解和掌握薄膜的定义、分类、特殊性和重要性。
2. 掌握与薄膜制备和研究相关的真空基础知识。
3. 掌握薄膜材料的制备方法及原理。
4. 掌握薄膜的成核和生长理论；5. 掌握薄膜的厚度、结构、成份、原子化学键合、应力、附着力的表征分析方法。
6. 了解薄膜材料的性质及应用。
本课程介绍薄膜的基础知识和研究进展。
重点要求掌握薄膜材料的制备方法及表征技术。
课程较全面地介绍了薄膜材料的各种制备方法、生长过程和表征方法，具有较好的广度和深度。
使学生基本具备相关资料综合分析和整理能力。
薄膜材料与技术教学大纲
《薄膜材料与技术》课程教学大纲课程代码：090642008课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology课程总学时：32 讲课：32 实验：0 上机：0适用专业：光电信息科学与工程大纲编写（修订）时间：2017.10一、大纲使用说明（一）课程的地位及教学目标薄膜材料与技术是光电信息科学与工程专业本科生的一门专业选修课，通过本课程的学习，使学生了解薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识，掌握薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征，了解目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料。
培养学生在获取薄膜材料与薄膜技术基本知识的过程中，能够理论联系实际，并增强学生的创新意识，提高学生的工程实训能力。
为开阔学生学术视野和提高学生实际工作能力提供知识储备。
（二）知识、能力及技能方面的基本要求1. 知识方面的基本要求通过本课程的学习，使学生了解薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
了解各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
使学生掌握薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质。
2.基本理论和方法方面的要求了解薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
了解各种成膜技术的基本原理与方法；3. 能力方面的要求培养和提高学生实际工作能力及实验技能。
（三）实施说明1．本大纲适用于“光电信息科学与工程专业”以及“信息显示与光电技术专业”等相近专业的本科生；2．因教学学时所限，课堂教学要做到突出重点，精讲难点，教师在授课中可酌情安排各部分的学时，课时分配表仅供参考；3. 对于与其它课程交叉部分的内容，要突出本课程在课程设置中的地位、作用与特色，即立足于薄膜材料与技术涉及到的基本物理效应，重要概念与理论分析方法，器件的工作原理、主要性能特征及应用方向等；4. 注意知识的内在联系与融合贯通，注意采用课堂讲授、讨论、多媒体教学相结合的教学方式，启发学生自学并不断积累学科前沿最新知识，学会独立思考，独立提出问题与独立解决问题的能力。
光电薄膜技术 教学大纲
光电薄膜技术一、课程说明课程编号：140513Z10课程名称：光电薄膜技术/ Photoelectric Thin-film Technology课程类别：专业教育课程学时/学分：32/2先修课程：高等数学、固体物理、应用光学适用专业：光电信息科学与工程相关所有专业教材、教学参考书：1.卢进军主编.光学薄膜技术.北京：电子工业出版社.2011年；2.吴锦雷主编.纳米光电薄膜材料.北京：北京大学出版社.2011年。
二、课程设置的目的意义薄膜制备技术是一种重要的材料制备和材料表面改性技术、本课程在学习薄膜光学基本理论知识的基础上、使学生系统的了解各种光学薄膜、器件（减反射膜、高反射膜、中性分束膜、截止滤光片等）的工作原理和应用范围。
通过学习本课程可以使学生详细了解和掌握真空蒸镀、物理气相沉积、热蒸发、溅射等薄膜制备技术，了解薄膜物性检测的主要方法，并为今后从事与光学薄膜相关的科研与工作打下坚实基础。
三、课程的基本要求通过本课程的学习，要求能够掌握薄膜光学的基本理论和器件设计的基本方法，包括：新设计方法、新器件设计、新薄膜制备工艺等。
主要内容包括：薄膜光学基础、器件设计方法、薄膜制造基本方法、高质量光学薄膜器件设计、光学薄膜材料、光学薄膜特性测试、功能薄膜等。
四、教学内容、重点难点及教学设计五、实践教学内容和基本要求暂无要求六、考核方式及成绩评定根据课程类型、课程性质、课程内容及特点，确定适合的考核内容、考核方式及成绩评定。
考核内容重点考核学生获取知识的能力、应用所学知识分析问题和解决问题能力、实践动手能力和创新能力等；考核方式采用多种形式（笔试、口试、答辩、测验、论文等）、多个阶段（平时测试、作业测评、课外阅读、社会实践、期末考核等）、多种类型（作品、课堂实训、课堂讨论、社会调查、竞赛等）等全过程的考核；成绩评定加大过程考核及阶段性考核成绩比例（原则上七、大纲主撰写人：大纲审核人：。
【教学大纲】薄膜技术
《薄膜技术》课程教学大纲一、教师或教学团队信息二、课程基本信息课程名称（中文）：薄膜技术课程名称（英文）：Thin Film Technology课程类别：□通识必修课□通识选修课□专业必修课□专业方向课√□专业拓展课□实践性环节课程性质*：□学术知识性√□方法技能性□研究探索性□实践体验性课程代码：1230161周学时：3 总学时：48学分: 3先修课程：普通物理学授课对象：应用物理专业本科生三、课程简介薄膜技术是应用物理专业高年级本科生选修课程。
薄膜技术是先进制造业的基础，涉及范围包括集成电路与电子元器件、显示器和LED照明、信息记录与储存、MEMS与传感器和太阳能电池等高技术产业。
通过本课程的学习，使应用物理专业的学生掌握真空技术、等离子体技术以及薄膜制备结构和性能等方面的基础知识，为本专业学生在高技术制造企业从业或继续进行研究生阶段的学习提供必要的知识和训练。
四、课程目标本课程的教学目标是在结合典型实例，深入浅出地阐明薄膜技术的基本原理，通过教师讲授和学生讨论相结合的方式，将培养和提高学生分析问题和解决问题的能力作为教学重点。
通过本课程的学习使学生掌握薄膜物理的基本知识及基本的薄膜制备技术，同时了解该领域当前的一些前沿研究进展和应用，为本专业学生在高技术制造企业从业或继续进行研究生阶段的学习提供必要的知识和训练。
本课程的教学要求学生初步掌握真空及薄膜的物理基础，对真空获得、真空测量、气体放电、低温等离子体技术、溅射、化学气相沉积以及薄膜制备结构和性能等有较深入的了解；在重点掌握溅射、化学气相沉积等基本工艺的基础上，对迅速发展的薄膜技术有全面的了解；结合国外相关的课程资料和课堂讨论，对于工业界应用的薄膜材料制备、结构、性能有系统的学习。
五、教学内容与进度安排第一章课程导论1. 课时数32. 讲授内容或训练技能，重点、难点--课程介绍--薄膜技术及应用领域以及同薄膜物理的关系--薄膜获得设备和薄膜实验室参观3. 学生学习任务--薄膜的物理定义--理解薄膜技术是高精尖的生产技术和在信息、高技术产品制造中的作用--通过薄膜实验室参观，了解薄膜生长设备的主要组成部分、真空室和真空获得设备、等离子体辉光观察和完整的薄膜生长制程。
薄膜技术教学活动设计讲义
薄膜技術Thin film Technology一、何謂薄膜技術薄膜技術是目前最流行的表面處理法之一，可應用於裝飾品、餐具、刀具、工具、模具、半導體元件等之表面處理，泛指在各種金屬材料、非金屬材料、超硬合金、陶瓷材料、奈米材料及晶圓基板的表面上，成長一層同質或異質材料薄膜的製程，以期獲得美觀耐磨、耐熱、耐蝕等特性，而加以使用。
依據沈積過程中，可以區分為物理氣相沈積(Physical vapor deposition；PVD)通常稱為物理蒸鍍及化學氣相沈積(Chemical vapor deposition；CVD)通常稱為化學蒸鍍。
隨著沈積技術及沈積參數差異，所形成薄膜的組織，可分為「單晶」「多晶」、或「非結晶」的結構。
二、薄膜成長機制（Thin film growth mechanism）薄膜的成長是一連串複雜的過程所構成的。
圖（一）為薄膜成長機制的說明圖。
首先到達基板的原子必須將動量降低或發散，原子才能「吸附」(Adsorption)在基板上。
這些原子會在基板表面發生化學反應並進行薄膜的表面作擴散運動，這個現象稱為吸附原子的「表面遷徙」(SurfaceFmigration)。
當原子彼此相互碰撞時會結合而形成原子團過程，稱為「成核」(Nucleation)。
原子團必須達到一定的大小之後，才能持續不斷穩定成長。
因此小原子團會傾向彼此聚合以形成一較大的原子團，以調降整體能量。
原子團的不斷成長會形成「核島」(Island)。
核島之間的縫隙須要填補原子才能使核島彼此接合而形成整個連續的「薄膜成長」。
而無法與基板鍵結的原子則會由基板表面脫離而成為自由原子，這個步驟稱為原子的「吸解」(Desorption)。
依據薄膜成長機制可分為PVD與CVD，PVD利用物理性方式進行吸附與吸解作用，而CVD利用化學反應進行吸附與吸解反應。
三、物理氣相沈積技術物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD) 技術是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。
薄膜材料与薄膜技术教学大纲
《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲一、《材料制备技术》课程说明（一）课程代码：（二）课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology（三）开课对象：物理系材料物理专业（四）课程性质：本课程是材料物理专业的一门专业选修课。
（五）教学目的本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。
通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识，同时也能了解该领域内当前的一些前沿研究进展，开阔眼界，这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。
（六）教学内容：本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
（七）学时数、学分数及学时数具体分配学时数：36学分数：2（八）教学方式：课堂教学（九）考核方式和成绩记载说明：考核方式为考试。
严格考核学生出勤情况，达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格，综合成绩根据出勤情况、平时成绩和期末成绩评定，出勤情况占20％，平时成绩占20％，期末成绩占60％。
二、讲授大纲与各章的基本要求第一章真空技术基础教学要点：通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识，掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。
教学时数：4教学内容：第一节：真空的基本知识第二节：稀薄气体的基本性质第三节：真空的获得第四节：真空的测量考核要求：1．真空的基本知识（识记）2．稀薄气体的基本性质（领会）3．真空的获得（领会）4．真空的测量（识记）第二章真空蒸发镀膜法教学要点：了解真空蒸发镀膜的基本原理，了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点，了解膜厚和沉积速率的测量与监控方法。
教学时数：4教学内容：第一节：真空蒸发原理第二节：蒸发源的蒸发特性及膜厚分布第三节：蒸发源的类型第四节：合金及化合物的蒸发第五节：膜厚和沉积速率的测量与监控考核要求：1．真空蒸发基本原理（领会）2．蒸发源的特性及膜厚分布（识记）3．蒸发源的类型（识记）4．膜厚和沉积速率的测量与监控（领会）5．合金及化合物的蒸发（领会）第三章溅射镀膜教学要点：了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理，掌握溅射法制备的特点，熟悉溅射镀膜的几种基本类型，了解溅射镀膜的厚度分布特点，明确如何控制厚度均匀性指标。
《薄膜生长技术》课程教学大纲
薄膜生长技术Thin Film Grown Technology一、课程基本情况课程类别：专业任选课课程学分：2学分课程总学时：32学时，其中讲课：32学时课程性质：选修开课学期：第5学期先修课程：大学物理适用专业：光电信息科学与工程、应用物理学、物理学等教材：卢进军，刘卫国等，光学薄膜技术（第二版），电子工业出版社，2011年出版。
开课单位：物理与光电工程学院光电工程系二、课程性质、教学目标和任务《薄膜生长技术》是一门适用于光电信息科学与工程、应用物理学等专业的选修课。
课程的教学目标是：在大学物理、光学等课程的基础上，学习和理解薄膜的基本概念、物理基础、膜系的设计方法、薄膜的制备技术和表征测试技术，理解和掌握实验发现、理论洞见、实际应用三者间的辩证关系，深刻认识薄膜生长技术在当代科学技术中的重要性，努力培养学生的科学素质和科学精神，通过对薄膜生长技术的基本概念和基本规律的学习或研究，理解或领悟科学研究方法，学会应用先进制造技术和分析测试技术分析和处理薄膜材料问题, 培养创新意识和创新精神，为学生的进一步学习和就业打好良好基础。
课程的任务是：理解薄膜生长技术的基本概念、基本规律和基本技术，介绍薄膜在制备技术、分析测试技术及前沿领域研究与应用的现状，重视基础和技能训练，真正使学生思维方式、思维习惯有所改变, 创新意识或创新能力有所提高。
三、教学内容和要求第1章薄膜光学特性计算基础（4学时）教学内容：单一界面的反射率和透射率，菲涅耳公式，单层和多层介质膜的反射率和透射率，等效光学导纳，膜层特征矩阵，金属薄膜的光学特性，等效界面的思想。
1.1单一界面的反射率和透射率（2学时）（1）了解光学导纳的基本概念（2）理解菲涅尔公式的推导过程（3）掌握单一界面的反射率和透射率、等效界面重点：单一界面的反射率和透射率的计算难点：菲涅尔公式、等效界面L2单层介质膜的反射率（1学时）（1）了解电磁场的边界条件（2）理解单层介质膜的光学特性（3）掌握单层介质膜与基底组合的等效光学导纳重点：单层介质膜与基底组合的等效光学导纳，膜层特征矩阵难点：单层介质膜的光学特性L3多层介质膜的反射率和透射率（0.5学时）（1）了解等效界面的思想（2）理解多层介质膜系的反射率和透射率（3）掌握多层介质膜系的光学特性重点：多层介质膜系的光学特性难点：多层介质膜系的反射率和透射率的推导过程L4金属薄膜的光学特性（0.5学时）（1）了解金属薄膜的应用（2）理解金属薄膜的光学特性（3）掌握势透射率重点：金属薄膜的光学特性难点：势透射率第2章介质膜系及其应用（8学时）教学内容：减反射膜，高反射膜，周期性多层膜堆，中性分束膜，截至滤光片，带通滤光片, 法布里-珀罗滤光片特性。
表面科学与薄膜技术 教学大纲
表面科学与薄膜技术一、课程说明课程编号：060110Z10课程名称(中/英文)：表面科学与薄膜技术/ Surface Science and Thin Solid Films课程类别：学科专业基础课程学时/学分：32/2先修课程：高等数学、大学物理、大学化学、物理化学、材料科学基础适用专业：材料科学与工程专业本科生建议教材及参考书：（1）唐伟忠，薄膜材料制备原理、技术及应用，冶金工业出版社，2003 （2）M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, (Academic Press, Inc., Boston, 2002).（3）刘敏、等，薄膜与涂层现代表面技术，XX大学出版社，2008.（4）孙大明、席光廉，固体表面与界面，安徽出版社，1996.二、课程设置的目的、意义薄膜材料及其制备技术是飞速高科技产品的重要支撑。
我国在功能薄膜上的研究水平和研发能力，正逐步进入了国际主流方向，国家已将功能薄膜产业链的各个环节，从基础研究、应用研究、中式和产业化项目集成于膜科技专项之中，薄膜产业正成为我国新的经济增长点。
因此，十分必要在以大材料专业设置相关课程系统介绍薄膜材料有关的基础理论、原理和制备技术。
本课程是材料科学与工程专业的一门专业基础课。
旨在通过本课程的教学，使学生熟悉通晓固体薄膜材料的应用领域、制备原理以及常用技术，以及各种功能薄膜材料研究、开发、生产的全部领域。
扩展学生的专业知识。
三、课程目标3.1课程对毕业生能力支撑本课程对应毕业要求标准2-④、3-②、4-②、5-①、6-②、10-①。
具体内容如下：毕业要求2-④：掌握分析研究材料生产复杂工程问题所需的专业理论知识。
能够运用所学专业理论知识分析材料组成-工艺-结构-性能的相互关系与制约规律，识别材料生产过程不同阶段的关键。
毕业要求3-②：掌握材料设计与生产所需的专业理论知识。
通过系统掌握本专业领域技术基础理论，能够清晰地描述出一个设计任务需求，并能够识别该任务所面临的各种制约条件，能从多种备选材料生产制备方案和系统里面进行优选。